Suchen

Lasertechnik Laser soll bei Trumpf weiter Wachstumstreiber sein

| Redakteur: Rüdiger Kroh

Die große Auswahl unterschiedlicher Laserstrahlquellen soll für Trumpf zukünftig der Wachstumstreiber sein.Das erklärte der Ditzinger Hersteller auf der Messe Laser World of Photonics. 2013 in München.

Firmen zum Thema

Für Dr.-Ing. E.h. Peter Leibinger, stellvertretender Vorsitzender der Geschäftsführung der Trumpf GmbH + Co. KG, bietet der Laser weiter Wachstumspotenzial.
Für Dr.-Ing. E.h. Peter Leibinger, stellvertretender Vorsitzender der Geschäftsführung der Trumpf GmbH + Co. KG, bietet der Laser weiter Wachstumspotenzial.
(Bild: Kroh)

„Wir machen in der Trumpf-Gruppe fast 70 % unseres Umsatzes mit Laserprodukten und in den vergangenen drei Jahren hat der Laserbereich seinen Umsatz verdoppelt”, betonte Dr.-Ing. E.h. Peter Leibinger, stellvertretender Vorsitzender der Geschäftsführung der Trumpf GmbH + Co. KG und Vorsitzender des Geschäftsbereichs Lasertechnik/Elektronik, auf der Pressekonferenz während der Messe Laser World of Photonics. Dort präsentierte das Unternehmen unter dem Motto „Power of Choice” zahlreiche neue Strahlquellen. Das besondere Augenmerk lag dabei auf Kurzpuls- und Ultrakurzpulslaser für die Mikrobearbeitung.

Schwerpunkte sind der Schneidmarkt und der Diodenlaser

In den vergangenen 50 Jahren sei Trumpf im Durchschnitt jährlich um 15 % gewachsen und schon daran hatte der Laser einen großen Anteil. „Unser Ziel für die nächsten fünf Jahre ist ein durchschnittlicher Zuwachs von 10 %”, erklärte Leibinger. Für das laufende Geschäftsjahr, das am 30. Juni zu Ende geht, habe sich das Wachstum deutlich verlangsamt. „Nach zwei Jahren mit guten zweistelligen Steigerungsraten wird das Plus diesmal nur im einstelligen Bereich liegen.”

Als Schwerpunkte für das Lasergeschäft nannte Leibinger den Schneidmarkt und den Diodenlaser. „Das Laserschneiden wird von uns eine neue Aufmerksamkeit erfahren und die Diode ist das Schlüsselelement für den Laser der Zukunft.” Im Fokus stehe auch die Mikrobearbeitung, deren Dimension man noch gar nicht einschätzen könne.

Großes Potenzial stecke zudem in dem Thema EUV-Lithografie zur Mikrochipherstellung. Dafür habe Trumpf ein pulsfähiges CO2-Lasersystem entwickelt, mit dem über ein sogenanntes Laser-Produced-Plasma Licht mit der Wellenlänge von 13,5 nm zur Belichtung des Wafers erzeugt werde.

Dieser Beitrag ist urheberrechtlich geschützt. Sie wollen ihn für Ihre Zwecke verwenden? Kontaktieren Sie uns über: support.vogel.de (ID: 39636990)